磁场屏蔽技术推进半导体微型元件研发制程
磁场屏蔽技术对于半导体制程颇具重要性。半导体产业不断投入微型元件的研发,其工厂通常采用吊顶式单轨系统,以在站点之间运输组件以进行自动装载和加工,这些高架系统通常会产生9 kHz的磁场,这对成像品质产生极大负面影响,必须将其消除以提高解析度,恢复电子显微镜原有的效能。
磁场屏蔽技术对于半导体制程颇具重要性。半导体产业不断投入微型元件的研发,其工厂通常采用吊顶式单轨系统,以在站点之间运输组件以进行自动装载和加工,这些高架系统通常会产生9 kHz的磁场,这对成像品质产生极大负面影响,必须将其消除以提高解析度,恢复电子显微镜原有的效能。
在Spectra 300 TEM上安装了2X SC24主动双消磁系统后,外部干扰已经明显改善。透过四颗磁场探头所取得的资料,可见在高度3公尺至0.5公尺范围内不论是X、Y、 Z方向其数值皆低于20nT。故Spectra 300 TEM可不受磁场干扰影响,而能以最高倍率运作、取得高品质影像。
为了不断提高电子显微镜解析度和成像品质,制造商的环境规范变得越来越严格,配备光谱仪的高阶显微镜只能承受高达10 或20 奈米特斯拉的干扰;在无法迁移其他设备并重新安置所有设施的情况下,可以采取不同措施来应对震动和磁场的严重性并抵消其影响。
在许多情况下,我们必须对环境做量测或监控,以确保环境在符合标准的磁场、震动、声波等范围内。例如:在安装电子显微镜、电子束微影系统、CD-SEM 和聚焦离子束显微镜等仪器之前的环境评估、找出实验室设备运作问题的原因、长期维持敏感设备稳定度等等。
环境量测/改善咨询:16621560396 | 电镜部件样品杆/样品台咨询:15201535737 | Email:kechieh@163.com
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